一顾所长同意对重光公开全所员工档案，并召开全体员工大会，这让胡一亭感到满意，于是接下来大家继续讨论晶圆厂的设备和214所的技术储备。顾所长身边已经渐渐聚集了一批所里的工程师们，足有十五、六人之多，都好奇地打量着胡一亭和康耀祥，认真地听他们说什么。
康耀祥毫不怯场，站在无尘车间的走廊里，隔着墙玻璃指着厂房里的光刻机道：“作为试验线，微米还是保守了。
现在成都光机所已经拿出了微米分步重复投影光刻机，今年1月份以工艺流片成功率80%以上的好成绩通过了国家验收，目前正在北都微电子中心进行设备的安装调试。
按照计划，他们打算今年年底之前，大概11月12月的样子，就可以开始进行国产设备的‘微米CMOS全套工艺’的工艺考核，预计半年之内可以见分晓。
到时候咱们国家就算是正式拥有了属于自己的微米制程全套生产设备和制造工艺了！我看这次考核一定能通过！原因很简单，目前微米制程工艺已经在微电子所实现了高良品率的实验通过，而且这段时间经过908华晶工程的检验，完全可以满足高良品率的生产制造任务！
华晶厂目前以微米制程工艺生产我们重光的CMP1J1芯片，良品率已经超过了70%，并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了微米制程上，达到了60%以上的良品率。
所以乐观地说，我国目前基本上是已经掌握了了微米制程工艺和设备制造的自主技术，唯独欠缺的是微米制程下的IC设计能力，这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验，毕竟目前可供使用的试验线实在太少了，屈指可数的那几家IC设计单位，也都没有很强的工艺储备，研发经验比起国外公司差的太多。
我们重光要保持领先优势，就必须继续在新工艺上持续研发，不能满足于微米制程的设计，还要为将来的微米制程工艺储备技术和试验参数。
所以胡总和我商量之后，决定把你们214所这条线进行技术改进，打算向中科院光电技术研究所也就是成都光机所下订单，与北都微电子中心同步安装他们的-1微米分步重复投影光刻机。”
顾所长闻言赞道：“我知道你们重光公司是国内唯一一家有微米集成电路设计技术的企业，你们能把所里的这个晶圆厂提升到什么程度，我们也很好奇啊，你们打算怎么搞，能说说嘛？呵呵呵，要是方便的话。”
214所的工程师们也都点头，很想知道重光打算怎么改造这条线路。
胡一亭见在场的都是工程师，于是便坦诚相告道：“我们打算从长春光机所订一套高参数标准的物镜，缩小倍率大约是八倍到
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